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IMC200中等束流離子注入設備

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IMC200中等束流離子注入設備

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功能概述
技術指標
安裝條件

◆適用于1mm2小樣片至6英寸晶圓片,

可選擇自動或手動裝載。

◆注入離子能量 200KeV

雙電荷注入可達到400KeV

◆多種離子源可以選擇

Bernas、Freeman、濺射、液態源……

◆超過60種元素都可以實現離子注入

◆多電荷注入能力

◆可實現冷注入和熱注入

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