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IMC200中等束流離子注入設備
功能概述
技術指標
安裝條件
◆適用于1mm2小樣片至6英寸晶圓片,
可選擇自動或手動裝載。
◆注入離子能量 200KeV
雙電荷注入可達到400KeV
◆多種離子源可以選擇
Bernas、Freeman、濺射、液態源……
◆超過60種元素都可以實現離子注入
◆多電荷注入能力
◆可實現冷注入和熱注入
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